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TN-MSP325S-3RF-D UPS三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的高性價比的磁控濺射鍍膜設備。 它是標準化，模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜，導電膜，合金膜，半導體膜，陶瓷膜，介電膜，光學膜，氧化物膜，硬膜，PTFE膜等。 與同類設備相比，這種三靶磁控濺射鍍膜機不僅用途廣泛，而且具有體積小，操作簡便的優點，是實驗室制備材料膜的理想設備。
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名稱 |
UPS三靶磁控濺射鍍膜儀 |
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型號 |
TN-MSP325S-3RF-D |
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電源電壓 |
交流220v，60Hz |
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UPS |
20KVA 16KW，延遲1小時 16節電池，容量38AH |
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真空室 |
尺寸：直徑 325毫米*高385毫米 材質：304不銹鋼 視口（窗口）：約4英寸（100毫米），帶快門 |
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樣品臺 |
頂部樣品架 樣品表：直徑 150毫米 樣本數量：*大 直徑4英寸 轉速：0-40rpm可調 加熱溫度：*高700C |
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水冷裝置 |
水流量：2.3m3 / h 電源：3P 制冷量：8250Kcal / h 壓縮機輸出功率：2.25KW |
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磁控濺射槍 |
3×2''磁控濺射槍，帶自動快門 向上濺射方向 目標直徑：2英寸 磁鐵：稀土磁鐵 |
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質量流量計 |
3×MFC質量流量控制（Ar，O2和N2） 測量范圍：*大20sccm 帶氣動隔離閥和過濾器。 |
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通過PC或PLC全自動控制 |
儲存至少100個配方 19''平板控制器 |
射頻發生器3×RF 300W自動匹配電源
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功率輸出范圍 |
5W?300W |
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MAX.大反射功率： |
100W |
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電源穩定性 |
±0.1％ |
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諧波成分 |
≤-50dbc |
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電源 |
≤-50dbc |
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效率 |
≥70％ |
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功率因數 |
≥90％ |
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反射功率（*大功率 |
<3W |
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比賽時間 |
1?3s |
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射頻輸出接口 |
50Ω，L29或定制 |
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MAX.大負載 |
電流：30ARMS ，電壓：7500VRMS |
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匹配阻抗 |
實部范圍：0?80Ω 虛部范圍：﹣200j?﹢ 200j |
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冷卻方式 |
強制冷卻 |
