0371-5536 5392 0371-5519 9322
超高純氫氣發生器運用先進且 **擁有的100% 鈦金屬質子交換膜(PEM) 技術， 將去離子水中的氫氣分離并提純，為CVD設備提 供超高純的氫氣氣源。
獨特的設計讓運行更加穩定可靠，并保證更長的 使用壽命。發生器可24小時連續穩定地工作，開 機時自動檢查內部泄漏，自動控制裝置的運行參 數，保證**啟動。
觸摸屏LCD界面提供簡單且清晰可見的運行信息， 讓用戶便捷地掌控和管理發生器。
氫氣發生器產品特點 :
鈀催化劑降低O2＜0.01ppm，水分＜1ppm，氫氣純度可達99.99999%（7N）
**冷雙動態再生干燥器：去除水分和氧 氣，無需監控、更換和購買干燥劑筒，無需 加熱
通過USB進行遠程PC監控和診斷分析，將設備與客戶的PC軟件連接（需要通過遠程連接，才能有效地進行檢查和維護）壓力高達11bar(160psi)
顯示水質狀態：當水質變“**＂時及時出現報警提示
聯機產氫：可以通過軟件控制實現多臺發生 器并聯產氫(集中供氣)，提供穩定的流量和壓力、自動分配氫氣，無需外接繁多的氣體 控制機件，為您降低投入成本
對部分重要部件具有獨立跟蹤檢測功能并及時提示，在確保正常運行的同時將零部件使 用時間*大化
氫氣發生器型號及技術規格:
型號
流速
cc/min
純度
H2干燥系統
壓力
尺寸
(W x H x D)
應用
MF.H2.110
110
> 99.99999 %
(O2< 0.1 ppm,
露點< -75°C
)
自動再生干燥柱
（免維護）
11 bar
(160psi)
27 x 44 x 38 cm
GC載氣以及檢測器燃燒氣；
GC-MS 載氣
MF.H2.170
170
MF.H2.260
260
MF.H2.300
300
MF.H2.400
400
MF.H2.500
500
MF.H2.600
600
MF.H2.1000
1000
MF.H2.1200
1200
MF.H2.1350
1350
MD.H2.110
110
>99.9996 %
(O2<1 ppm,
露點< -55°C)
干燥劑筒
（手動更換）
7 bar
(101 psi)
27 x 44 x 38 cm
GC檢測器燃燒氣
MD.H2.170
170
MD.H2.260
260
MD.H2.300
300
MD.H2.400
400
MD.H2.500
500
MD.H2.600
600
MB.H2.110
110
>99.9996 %
(O2<1 ppm,
露點<-20°C)
特殊干燥膜
（免維護）
7 bar
(101psi)
27 x 44 x 38 cm
GC檢測器燃燒氣
MB.H2.170
170
MB.H2.260
260
MB.H2.300
300
>99.9996 %
(O2<1 ppm,
露點<-30°C)
11 bar
(160psi)
MB.H2.400
400
MB.H2.500
500
MB.H2.600
600
