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TN-MSP300S-RFDC雙靶磁控濺射鍍膜儀(DC&RF)是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購；所配電源為直流和射頻雙電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，射頻電源可用于非金屬膜的制備，兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。
鍍膜儀具有兩路高精度質(zhì)量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環(huán)境構建需求；儀器標配先進的渦輪分子泵組，極限真空可達10E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現(xiàn)在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制，在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進一步提高您的實驗效率。
雙靶磁控濺射鍍膜儀用途：
該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。
雙靶磁控濺射鍍膜儀技術參數(shù)：
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雙靶磁控濺射鍍膜儀 |
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樣品臺 |
尺寸 |
φ150mm |
控溫精度 |
±1℃ |
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加熱溫度 |
zui高500℃ |
轉速 |
1-20rpm可調(diào) |
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磁控濺射頭 |
數(shù)量 |
2” x2 （1”,2”可選） |
水冷機規(guī)格 |
10L/min流速的循環(huán)水冷機 |
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冷卻方式 |
水冷 |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ300mm × 340mm |
觀察窗口 |
φ100mm |
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腔體材料 |
不銹鋼 |
開啟方式 |
上頂開式 |
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質(zhì)量流量計 |
1路；量程200sccm Ar（可根據(jù)客戶需要定制多路氣路） |
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真空系統(tǒng) |
產(chǎn)品型號 |
TN-GZK103-A |
抽氣接口 |
KF40 |
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分子泵 |
TN-600 |
排氣接口 |
KF16 |
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前極泵 |
VRD-4 |
真空測量 |
復合真空計 |
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極限真空 |
10E-5Pa |
供電電源 |
AC;220V 50/60Hz |
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抽氣速率 |
分子泵：600L/S 旋片泵：1.1L/S 綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達： 1.0E-3Pa |
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電源配置 |
數(shù)量 |
直流電源 ×1+射頻電源×1 |
zui大輸出功率 |
直流電源500W -1000W可選 射頻電源500W-1000W 可選 |
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其他 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
整機尺寸 |
1090mm × 900mm × 1250mm |
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整機功率 |
6KW |
整機重量 |
350kg |
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