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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
單靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，單靶射頻磁控濺射鍍膜儀可用于非金屬膜、光學膜的濺射，根據(jù)實驗需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。
詳情介紹：
TN-MSP300S-RF 單靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇；所配射頻電源，500W-1000W ，可用于非金屬膜、光學膜的濺射，根據(jù)實驗需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。
鍍膜儀具有一路高精度質(zhì)量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求；儀器標配先進的渦輪分子泵組，極限真空可達10E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制，在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進一步提高您的實驗效率。
用途：單靶射頻磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。
| 產(chǎn)品名稱 |
單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻） |
| 產(chǎn)品型號 |
TN-MSP300S-RF |
| 特點 |
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| 參數(shù) |
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| 規(guī)格 |
尺寸：1090mm × 900mm × 1250mm；重量：350kg ；電壓：AC220V,50Hz；功率：6KW |
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