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○產(chǎn)品介紹
TN-MSP500S-DCRF-RE往復(fù)樣品臺(tái)型雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。本型號(hào)樣品臺(tái)采用往復(fù)式設(shè)計(jì)，左側(cè)配有磁力耦合推桿，可將樣品臺(tái)左右推動(dòng)。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。整機(jī)均采用觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡(jiǎn)單易上手，是一款實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備.
○適用范圍
設(shè)備配有一臺(tái)直流電源，一臺(tái)射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
○產(chǎn)品特點(diǎn)
1、雙靶共同濺射或者反應(yīng)濺射
2、磁控靶帶水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量。
3、樣品臺(tái)往復(fù)式設(shè)計(jì)，左側(cè)配有磁力耦合推桿，樣品臺(tái)左右推動(dòng)
4、直流加射頻電源滿足多種材料濺射
5、觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序
○技術(shù)參數(shù)
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供電電壓 |
AC220V，50Hz |
機(jī)功率 |
6KW |
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極限真空度 |
5x10-4Pa |
樣品臺(tái)尺寸 |
100mm x 100mm |
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樣品臺(tái)往復(fù)行程 |
200mm |
磁控濺射頭 |
2個(gè)2”磁控濺射頭 |
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磁控濺射頭冷卻方式 |
10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī) |
腔體尺寸 |
φ500mm X 490mm H |
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腔體材料 |
不銹鋼 |
觀察窗口 |
φ100mm |
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腔體開啟方式 |
前開門式 |
氣體流量控制器 |
1路200sccm Ar |
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真空泵 |
配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S |
膜厚儀 |
石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái)，分辨率0.10 ? |
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濺射電源 |
直流電源1臺(tái)，500W，適用于制備金屬膜 射頻電源1臺(tái)，500W，適用于非金屬鍍膜 |
操作方式 |
一體機(jī)電腦操作 |
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整機(jī)尺寸 |
1090mm X 900mm X 1250mm |
整機(jī)重量 |
350kg |
○免責(zé)聲明
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