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一、設備性能：
鍍膜設備以金屬/有機源蒸發為主體，適用于實驗室制備金屬單質、氧化物、介電質、半導體膜等，也可用作教學及生產線前期工藝試驗等，整套設備操作簡便，綜合功能多，擴展空間大，適合及滿足大專院校的教學與科研工作。
二、設備基本結構：
鍍膜設備由真空室腔體，金屬/有機源系統，樣品臺系統，真空泵機組，膜厚檢測系統，設備機架，電控系統組成，真空室前門可與手套箱對接，采用一體化的設計方案，整套設備結構緊湊、布局簡潔，避免實驗設備外觀凌亂的現象。
三、設備技術指標：
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1. 真空室腔體 |
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外形 |
上等 304 不銹鋼 D 形真空室腔體 1 套，真空室內部尺寸 D400*480mm，前后雙開門，后門采用鉸鏈式方門，方便清洗真空腔體，真空室內部調試，維修以及取放物品，前門采用橫拉方門，前后門各配 DN100 視窗 1 套； |
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底部 |
金屬源接口 2 套，有機源接口 4 套， 復合分子泵接口 1 套，CF25照明接口 2 套以及膜厚探頭接口 3 套； |
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頂部 |
樣品臺接口 1 套，電動擋板接口 1 套，高真空氣動擋板閥接口 1 套 |
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左側 |
超高真空氣動擋板閥接口 1 套 |
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2. 金屬/有機源系統 |
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金屬蒸發源 |
金屬蒸發源 2 套:水冷銅電極 2 組，兼容蒸發舟（鎢、鉬和鉭舟）和螺旋絲，配氣動擋板，1KW 直流恒流電源 1 臺（數字顯示），電流調整精度 1A（微調），功率滿足常見的金屬以及金屬氧化物的蒸鍍； |
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有機蒸發源 4 套 |
有機蒸發源 4 套:4CC（4ml） 石英舟，溫控電源 2 臺（溫控表顯示精度 0.1℃），溫度區間：室溫-500℃（控溫精度±1℃），配氣動擋板； |
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隔板 |
蒸發源相互獨立，隔板分隔，避免交叉污 |
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3. 樣品臺系統 |
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基片旋轉 |
轉速 0～30 轉／分連續可調 |
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基片升降 |
電動升降，襯底與蒸發源間距 200-300mm 通過觸摸屏連續可調； |
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樣品臺 |
圓形托盤 1 套，一次可放置8片20×20mm 基片 |
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基片擋板 |
電動擋板 |
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4. 真空泵機組 |
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真空泵機組 |
1) 600L/s分子泵 1 臺； 2) 8L/s雙級泵 1 臺 3) CF150 氣動超高真空插板閥 1 臺； 4) CF40 超高真空氣動擋板閥 1 臺； 5) KF16 高真空氣動擋板閥 1 臺； 6) KF40 高真空氣動擋板閥 1 臺； 7) KF40 真空電磁充氣閥 1 臺；
8) KF40 泵閥連接軟管 2 套，KF40 三通 1 套； |
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5. 膜厚檢測系統 |
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膜厚儀 |
三通道石英晶振膜厚監測儀 1 套； |
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膜厚探頭 |
CF35 水冷膜厚探頭 3 套 |
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6. 設備機架 |
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1) 40 碳鋼方管焊接機架 1 套，表面噴塑； 2) 萬向輪 4 件，移動調整； 3) M16 地腳 4 件，鎖緊定位 |
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7. 電控系統 |
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金屬源蒸發源氣動擋板 |
2套 |
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金屬蒸發源電源1kw |
1套 |
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有機源蒸發源氣動擋板 |
4套 |
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有機蒸發源電源 |
2套（1帶2） |
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烘烤照明電源 |
1 臺 |
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樣品臺電動擋板 |
1套 |
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總控制電源 |
1套 |
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PLC 控制 |
配觸摸屏 |
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8.手套箱 |
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腔體尺寸 |
L1200* W750* H900mm |
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手套 |
3只 |
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大過渡艙 |
內徑360mm, 長 600mm |
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小過渡艙 |
內徑150mm, 長300mm |
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9. 其他技術參數 |
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1) 缺相保護、誤操作保護，聯動互鎖以及一鍵真空啟停等功能； 2) 供電：～220V 兩相供電系統（峰值 3KW）； 3) 供水：小型冷水機，冷卻水溫度 5℃～35℃，工作環境溫度：10℃～40℃； 4) 供氣：小型無油靜音氣泵，提供 0.2-0.3MPa 氣壓，驅動氣動閥門； 5) 極限真空：優于 6×10-5Pa，大氣至 6×10-4Pa 時間小于 35 分鐘（充干燥氮氣），關機 12 小時真空度≤10Pa。 |
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