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小型溫控蒸發鍍膜儀 小型溫控蒸發鍍膜儀廣泛用于電極的制備和有機物發光LED的制備,該小型溫控蒸發鍍膜儀可對程序進行設定，并準確控制溫度在20...
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高真空蒸發濺射二合一鍍膜儀 高真空蒸發濺射二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件,可用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可用蒸發的方式得到碳或者其他金屬...
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多源高真空蒸發鍍膜儀 多源高真空蒸發鍍膜儀兩組鎢舟蒸發源*高可達3000℃，可實現多種難熔金屬的蒸鍍，該多源高真空蒸發鍍膜儀分采用觸控屏和按鈕...
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磁控濺射蒸發二合一真空PV... 磁控濺射蒸發二合一真空PVD鍍膜儀將磁控濺射技術和真空蒸發技術結合在同一鍍膜設備，該磁控濺射蒸發二合一真空PVD鍍膜儀應...
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桌面型雙源熱蒸發鍍膜儀 桌面型雙源熱蒸發鍍膜儀有兩套蒸發源，可以通過擋板切換，實現對樣品的多層鍍膜，桌面型雙源熱蒸發鍍膜儀廣泛用于電極的制備和有...
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等離子濺射熱蒸發二合一鍍膜... 等離子濺射熱蒸發二合一鍍膜儀不但可用等離子濺射方式鍍金屬膜，也可用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。該等離子濺射熱...
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碳鍍鎢蒸等離子濺射復合鍍膜... 碳鍍鎢蒸等離子濺射復合鍍膜儀可進行真空蒸碳、真空熱蒸發和等離子濺射，它也可以在高純氬氣的保護之下進行多種離子處理，碳鍍鎢...
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小型高真空熱蒸發鍍膜儀 小型高真空熱蒸發鍍膜儀采用鎢絲籃作為蒸發源，蒸發溫度從200℃到1700℃，蒸發源外套高純氧化鋁坩堝，小型高真空熱蒸發鍍...